搪玻璃反應罐是(shi)(shi)將含高二(er)氧化硅(gui)的(de)玻璃，襯在鋼制(zhi)容器的(de)內表(biao)面，經高溫灼燒而(er)牢固地密著于金(jin)屬表(biao)面上成(cheng)為復合材料制(zhi)品。所以(yi)，是(shi)(shi)一種優良的(de)耐(nai)腐(fu)蝕設備。

搪玻璃反(fan)應罐技術規范：

1、耐酸性：

對各(ge)種有(you)機(ji)酸(suan)、無(wu)機(ji)酸(suan)、有(you)機(ji)溶劑均有(you)較好的抗蝕性。如將我廠生產的搪玻璃試樣置(zhi)于20%HCI溶液中(zhong)煮沸48h，腐蝕速率(lv)為(wei)0.9lg/m2.d（優等品指標為(wei)1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對堿(jian)性溶(rong)液抗蝕性較(jiao)酸(suan)溶(rong)液差。但將我廠(chang)搪玻璃(li)試(shi)樣置(zhi)于(yu)1N氫(qing)氧化(hua)鈉溶(rong)液腐蝕，試(shi)驗溫度80℃時(shi)間48h。腐蝕速(su)率為(wei)6.76g/m2.d（優等(deng)品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為(wei)0－200℃，耐溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的(de)瓷(ci)層厚度(du)0.8-2.0mm，搪玻璃反應釜附件(jian)的(de)瓷(ci)層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃(li)具有良好的絕緣性(xing)，當搪玻(bo)璃(li)在規(gui)定厚(hou)度內用20KV高頻電火花(hua)檢查瓷層(ceng)時，高頻電火花(hua)不(bu)能(neng)擊穿瓷層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪玻璃(li)反應罐的玻璃(li)層(ceng)內應力越(yue)小，彈(dan)性越(yue)好，硬度(du)(du)越(yue)大，抗彎抗壓強度(du)(du)越(yue)高，則耐沖擊就越(yue)好。我廠(chang)之玻璃(li)層(ceng)在規(gui)定(ding)厚度(du)(du)內，用直徑(jing)30mm，重量112g鋼(gang)球沖擊時，其沖擊功為282×10-3J（優等(deng)品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反(fan)應釜(fu)適用(yong)于石(shi)油化工(gong)、橡膠、農藥、染料、醫藥等行業，用(yong)以完成(cheng)磺化、硝化、氫化、烴(jing)化、聚合、縮(suo)合等工(gong)藝過(guo)程。

搪(tang)瓷反(fan)(fan)應釜工(gong)作溫度較高，通常化(hua)學反(fan)(fan)應需要在一定的溫度條件下(xia)才能進行，所以反(fan)(fan)應釜既(ji)承(cheng)(cheng)受壓力(li)又承(cheng)(cheng)受溫度。獲得高溫的方法通常有(you)以下(xia)幾種(zhong)：

1、水加溫

要(yao)求溫(wen)度不高時(shi)可采用，其加熱系統有(you)敞開(kai)式和密閉(bi)式兩種。敞開(kai)式較簡單，它由循(xun)環泵、水槽、管(guan)道及(ji)控制閥門的調節器所組成(cheng)，當采用高壓水時(shi)，設備(bei)機(ji)械強度要(yao)求高，反應釜(fu)外表面焊上蛇管(guan)，蛇管(guan)與釜(fu)壁有(you)間隙，使熱阻(zu)增(zeng)加，傳熱效果降低(di)。

2、蒸汽加熱

加熱溫度在100℃以(yi)下時，可用(yong)一(yi)個大氣壓以(yi)下的蒸汽(qi)來加熱；100~180℃范圍(wei)內，用(yong)飽(bao)和蒸汽(qi)；當溫度更高(gao)時，可采用(yong)高(gao)壓過熱蒸汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必(bi)須(xu)在(zai)高溫下(xia)操作或欲避免采用(yong)高壓的加(jia)熱(re)系(xi)統時(shi)，可(ke)用(yong)其它介質來代替水和蒸汽，如礦物油(you)（275～300℃）、聯苯醚混合(he)劑(ji)（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲(si)纏繞在(zai)反應釜(fu)筒(tong)體(ti)的(de)絕緣層(ceng)上，或安(an)裝在(zai)離反應釜(fu)若干距離的(de)特(te)設絕緣體(ti)上，因此，在(zai)電阻絲(si)與反應釜(fu)體(ti)之間形成了不大的(de)空間間隙。

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