山(shan)東搪聯化工設備有限(xian)公司
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搪玻璃反應釜是將含(han)高二氧(yang)化硅的(de)玻璃,襯在鋼(gang)制容器的(de)內表(biao)面(mian),經(jing)高溫(wen)灼燒而牢固地密著于金(jin)屬表(biao)面(mian)上成為(wei)復合材(cai)料(liao)制品(pin)。所以,是一(yi)種(zhong)優良(liang)的(de)耐腐(fu)蝕設備。
搪玻璃反(fan)應釜技術規范:
1、耐酸性:
對各種有機酸、無機酸、有機溶劑(ji)均有較好的抗蝕(shi)性(xing)。如將我廠(chang)生產(chan)的搪玻璃試樣置(zhi)于20%HCI溶液中煮(zhu)沸48h,腐(fu)蝕(shi)速率(lv)為(wei)0.9lg/m2.d(優等品指標(biao)為(wei)1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪玻璃對堿性(xing)(xing)溶(rong)液抗蝕性(xing)(xing)較酸溶(rong)液差。但將(jiang)我廠搪玻璃試樣置于1N氫氧化(hua)鈉(na)溶(rong)液腐(fu)蝕,試驗溫度80℃時間48h。腐(fu)蝕速率為6.76g/m2.d(優等(deng)品(pin)指(zhi)標為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
搪玻(bo)璃反應釜加熱和(he)冷卻(que)時,應緩慢(man)進行。我廠制造的(de)搪玻(bo)璃反應釜使用溫度為0-200℃,耐溫急變性(xing)≥200℃。
4、瓷層厚度:
淄博搪玻璃反應釜的(de)瓷層(ceng)厚度0.8-2.0mm,搪玻璃(li)反應釜(fu)附件的(de)瓷層(ceng)厚度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪(tang)玻(bo)璃(li)具(ju)有良(liang)好的絕緣性(xing),當搪(tang)玻(bo)璃(li)在(zai)規(gui)定厚度內用(yong)20KV高(gao)頻電(dian)火(huo)花(hua)檢查(cha)瓷層(ceng)時,高(gao)頻電(dian)火(huo)花(hua)不(bu)能擊穿(chuan)瓷層(ceng)。
6、耐沖擊性:
搪玻璃反應釜的(de)玻璃層內應力越(yue)(yue)小,彈(dan)性越(yue)(yue)好,硬度越(yue)(yue)大,抗彎抗壓強(qiang)度越(yue)(yue)高,則耐沖(chong)擊(ji)就越(yue)(yue)好。我廠之玻璃層在規定厚度內,用直徑30mm,重量112g鋼球沖(chong)擊(ji)時(shi),其沖(chong)擊(ji)功為282×10-3J(優等品指標為260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域:
搪瓷反應釜適(shi)用于石油化工、橡(xiang)膠、農藥(yao)、染料、醫(yi)藥(yao)等行業,用以完成磺化、硝化、氫(qing)化、烴化、聚合、縮合等工藝過程。
搪(tang)瓷(ci)反(fan)應(ying)(ying)釜(fu)(fu)工作溫度較高,通常化學反(fan)應(ying)(ying)需要在(zai)一定的溫度條(tiao)件下才能進行,所(suo)以(yi)反(fan)應(ying)(ying)釜(fu)(fu)既承受(shou)壓力(li)又承受(shou)溫度。獲得高溫的方法(fa)通常有以(yi)下幾種:
1、水加溫
要(yao)求溫(wen)度(du)不(bu)高時可采用,其加熱(re)系統有敞(chang)開(kai)式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞(chang)開(kai)式(shi)較簡單,它由循環泵、水槽、管道及控制閥(fa)門(men)的調節器所組成,當采用高壓(ya)水時,設備機(ji)械強度(du)要(yao)求高,反應釜外表(biao)面(mian)焊上(shang)蛇管,蛇管與釜壁有間(jian)隙(xi),使熱(re)阻增(zeng)加,傳(chuan)熱(re)效果(guo)降低。
2、蒸汽加熱
加熱(re)(re)溫度在100℃以(yi)下時,可(ke)用(yong)一個(ge)大氣壓(ya)以(yi)下的蒸(zheng)汽來加熱(re)(re);100~180℃范圍內,用(yong)飽和蒸(zheng)汽;當溫度更高時,可(ke)采用(yong)高壓(ya)過熱(re)(re)蒸(zheng)汽。
3、用其它介質加熱
若工(gong)藝要求必(bi)須(xu)在高溫下(xia)操作(zuo)或欲(yu)避免(mian)采用(yong)高壓的加(jia)熱系(xi)統時,可用(yong)其它(ta)介質來代替水和蒸汽,如礦(kuang)物油(275~300℃)、聯苯醚混合劑(沸點258℃)、熔鹽(140~540℃)、液態鉛(熔點327℃)等。
4、電加熱
將(jiang)電阻絲(si)纏繞在反應(ying)釜(fu)筒體的(de)絕緣層上(shang),或安裝在離反應(ying)釜(fu)若干距離的(de)特設絕緣體上(shang),因此,在電阻絲(si)與反應(ying)釜(fu)體之間(jian)(jian)形成了不大(da)的(de)空間(jian)(jian)間(jian)(jian)隙。
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