山東搪(tang)聯化(hua)工設備有限(xian)公司
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工廠地址:淄(zi)博市淄(zi)川(chuan)區董瓦村
搪玻璃反應罐是(shi)將含(han)高二(er)氧化(hua)硅的(de)(de)玻(bo)璃,襯在鋼制容器的(de)(de)內表(biao)面(mian),經高溫灼燒而牢固(gu)地密著于金屬表(biao)面(mian)上成為(wei)復合(he)材料制品。所以,是(shi)一種優良的(de)(de)耐腐蝕設備。
搪玻璃反應罐(guan)技術規(gui)范(fan):
1、耐酸性:
對(dui)各種有(you)機酸、無(wu)機酸、有(you)機溶劑均有(you)較好的(de)抗蝕(shi)性(xing)。如將我(wo)廠(chang)生產的(de)搪玻璃試樣置于20%HCI溶液(ye)中煮沸48h,腐蝕(shi)速率(lv)為0.9lg/m2.d(優等品指(zhi)標(biao)為1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪玻璃對堿性溶液(ye)抗蝕(shi)(shi)性較酸溶液(ye)差(cha)。但將(jiang)我廠(chang)搪玻璃試(shi)樣(yang)置于1N氫氧化鈉溶液(ye)腐蝕(shi)(shi),試(shi)驗溫度80℃時間48h。腐蝕(shi)(shi)速率為6.76g/m2.d(優(you)等品(pin)指標為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
搪玻璃反應罐加熱和冷卻時,應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使(shi)用溫(wen)度(du)為0-200℃,耐溫(wen)急(ji)變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
淄博搪玻璃反應罐的瓷(ci)層(ceng)厚度0.8-2.0mm,搪玻璃(li)反應釜附件的瓷(ci)層(ceng)厚度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪玻璃(li)具有(you)良好(hao)的(de)絕緣性(xing),當搪玻璃(li)在規定厚度內用20KV高頻電火花(hua)檢查瓷層時,高頻電火花(hua)不(bu)能擊穿瓷層。
6、耐沖擊性:
搪玻(bo)璃反應罐(guan)的玻(bo)璃層內應力越(yue)小,彈性越(yue)好(hao),硬(ying)度(du)越(yue)大,抗彎抗壓強(qiang)度(du)越(yue)高,則耐沖擊(ji)就越(yue)好(hao)。我廠之玻(bo)璃層在(zai)規定厚度(du)內,用直徑30mm,重量(liang)112g鋼(gang)球沖擊(ji)時,其沖擊(ji)功為282×10-3J(優(you)等品指標為260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域:
搪瓷(ci)反應(ying)釜適用(yong)于石油化工、橡膠、農藥、染料(liao)、醫(yi)藥等行業,用(yong)以完成磺化、硝(xiao)化、氫(qing)化、烴化、聚合、縮合等工藝(yi)過程。
搪瓷反應釜工作溫度較(jiao)高,通(tong)常化學反應需要在(zai)一定的溫度條件下(xia)才能進行,所以反應釜既承受壓力又承受溫度。獲得高溫的方(fang)法通(tong)常有以下(xia)幾種:
1、水加溫
要求溫度不高時可采(cai)(cai)用,其加熱系統有敞(chang)開式(shi)和密閉(bi)式(shi)兩種。敞(chang)開式(shi)較簡(jian)單,它由(you)循環泵、水槽、管道(dao)及(ji)控制閥門的(de)調節器(qi)所組成,當(dang)采(cai)(cai)用高壓水時,設備機械強度要求高,反應釜外表(biao)面(mian)焊上(shang)蛇管,蛇管與釜壁有間(jian)隙,使熱阻增加,傳熱效果降低(di)。
2、蒸汽加熱
加(jia)熱溫度(du)在(zai)100℃以(yi)(yi)下時,可用(yong)一個(ge)大氣壓(ya)以(yi)(yi)下的蒸(zheng)汽(qi)(qi)來(lai)加(jia)熱;100~180℃范(fan)圍內,用(yong)飽(bao)和(he)蒸(zheng)汽(qi)(qi);當溫度(du)更高時,可采用(yong)高壓(ya)過熱蒸(zheng)汽(qi)(qi)。
3、用其它介質加熱
若工(gong)藝要求必(bi)須(xu)在高溫下(xia)操(cao)作或欲避免采用(yong)(yong)高壓的加熱系統時,可用(yong)(yong)其它(ta)介質(zhi)來代替水和(he)蒸汽,如(ru)礦物油(you)(275~300℃)、聯(lian)苯醚混合劑(沸點258℃)、熔(rong)鹽(140~540℃)、液態(tai)鉛(熔(rong)點327℃)等(deng)。
4、電加熱
將電阻絲纏繞在(zai)(zai)反(fan)應(ying)釜筒體的絕緣層上,或(huo)安裝在(zai)(zai)離反(fan)應(ying)釜若干距離的特(te)設絕緣體上,因此,在(zai)(zai)電阻絲與反(fan)應(ying)釜體之間形成了不大的空間間隙。
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