山東搪聯(lian)化(hua)工設備(bei)有限公(gong)司(si)
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搪玻璃反應罐是將含(han)高二(er)氧化硅的玻(bo)璃,襯在鋼制容器的內表面(mian),經高溫灼燒(shao)而牢(lao)固地密著于金屬(shu)表面(mian)上成為復合材料(liao)制品。所以,是一種優良的耐腐蝕設備。
搪(tang)玻(bo)璃(li)反應罐技(ji)術規范:
1、耐酸性:
對各種有機酸、無機酸、有機溶劑均有較好的(de)抗(kang)蝕性。如將我廠生(sheng)產的(de)搪玻璃試樣置(zhi)于20%HCI溶液中煮沸48h,腐蝕速率為0.9lg/m2.d(優等品指標為1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪玻璃對堿性(xing)溶液抗(kang)蝕性(xing)較酸溶液差。但將我廠(chang)搪玻璃試樣置(zhi)于(yu)1N氫氧化鈉(na)溶液腐蝕,試驗溫度80℃時間48h。腐蝕速(su)率(lv)為(wei)6.76g/m2.d(優等品指標為(wei)7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
搪玻璃反應罐加熱和冷卻時,應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0-200℃,耐溫急(ji)變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
淄博搪玻璃反應罐的瓷層(ceng)厚(hou)度0.8-2.0mm,搪玻璃反應(ying)釜附件的瓷層(ceng)厚(hou)度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪玻(bo)璃具(ju)有良(liang)好的絕緣(yuan)性,當搪玻(bo)璃在(zai)規(gui)定厚度內用20KV高頻電(dian)火(huo)花檢查瓷層時,高頻電(dian)火(huo)花不能(neng)擊穿(chuan)瓷層。
6、耐沖擊性:
搪玻(bo)璃反應罐的玻(bo)璃層內應力越(yue)小,彈性越(yue)好,硬度越(yue)大,抗(kang)(kang)彎(wan)抗(kang)(kang)壓強度越(yue)高,則耐(nai)沖(chong)(chong)擊(ji)(ji)就越(yue)好。我廠之玻(bo)璃層在(zai)規定厚度內,用(yong)直徑30mm,重量(liang)112g鋼(gang)球沖(chong)(chong)擊(ji)(ji)時,其沖(chong)(chong)擊(ji)(ji)功為282×10-3J(優等品指(zhi)標(biao)為260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域:
搪瓷反應釜適用于石油化(hua)(hua)工、橡膠、農(nong)藥、染料、醫藥等(deng)行業,用以(yi)完成磺化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫(qing)化(hua)(hua)、烴化(hua)(hua)、聚合、縮(suo)合等(deng)工藝過程(cheng)。
搪瓷反(fan)應(ying)釜工作(zuo)溫(wen)度較(jiao)高(gao)(gao),通常化學(xue)反(fan)應(ying)需(xu)要在一定的溫(wen)度條件下才能進(jin)行,所以反(fan)應(ying)釜既(ji)承受壓力又承受溫(wen)度。獲得高(gao)(gao)溫(wen)的方(fang)法通常有以下幾種:
1、水加溫
要求溫(wen)度(du)不高時可采用,其加熱系(xi)統有敞開式(shi)和密閉式(shi)兩種。敞開式(shi)較(jiao)簡單,它由循環泵(beng)、水槽(cao)、管(guan)道及控制閥門的調節(jie)器所組成,當采用高壓水時,設備(bei)機械強(qiang)度(du)要求高,反(fan)應釜(fu)外(wai)表面焊上(shang)蛇管(guan),蛇管(guan)與釜(fu)壁有間隙(xi),使熱阻增加,傳熱效果(guo)降低。
2、蒸汽加熱
加(jia)熱(re)(re)溫度在100℃以下時,可用(yong)一個大氣(qi)壓以下的蒸(zheng)(zheng)汽(qi)(qi)來加(jia)熱(re)(re);100~180℃范圍(wei)內,用(yong)飽和蒸(zheng)(zheng)汽(qi)(qi);當(dang)溫度更高(gao)時,可采用(yong)高(gao)壓過熱(re)(re)蒸(zheng)(zheng)汽(qi)(qi)。
3、用其它介質加熱
若工藝要求(qiu)必須在高溫下操(cao)作或欲避免采(cai)用高壓(ya)的加(jia)熱系統時,可用其它介質來(lai)代替(ti)水和蒸汽,如礦物油(275~300℃)、聯苯醚混合劑(沸點258℃)、熔鹽(yan)(140~540℃)、液態(tai)鉛(熔點327℃)等。
4、電加熱
將電阻(zu)(zu)絲纏繞(rao)在(zai)反應釜筒體(ti)的絕緣層上,或安裝在(zai)離反應釜若(ruo)干距(ju)離的特(te)設絕緣體(ti)上,因(yin)此,在(zai)電阻(zu)(zu)絲與反應釜體(ti)之(zhi)間形成了(le)不大的空間間隙。
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