搪瓷反應罐是將含高二氧化硅的玻(bo)璃，襯在(zai)鋼制(zhi)容器的內表面(mian)(mian)，經高溫(wen)灼燒而牢(lao)固地(di)密著(zhu)于金(jin)屬表面(mian)(mian)上(shang)成為復(fu)合材料制(zhi)品。所以，是一(yi)種優良的耐腐蝕設備。

搪瓷反應罐技術規范：

1、耐酸性：

對(dui)各種有機(ji)酸、無機(ji)酸、有機(ji)溶(rong)劑均有較好的(de)抗蝕性。如將我廠生產的(de)搪(tang)玻(bo)璃(li)試樣置于20%HCI溶(rong)液中(zhong)煮沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等品指(zhi)標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻(bo)璃(li)對堿性(xing)溶(rong)液(ye)抗蝕性(xing)較酸溶(rong)液(ye)差。但(dan)將我廠搪(tang)玻(bo)璃(li)試樣置于1N氫氧化(hua)鈉溶(rong)液(ye)腐蝕，試驗溫度80℃時間48h。腐蝕速率為(wei)6.76g/m2.d（優等品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用(yong)溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪(tang)瓷反(fan)應(ying)罐(guan)的瓷層厚度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反(fan)應(ying)釜附件的瓷層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻璃(li)具有良好的絕緣性(xing)，當搪(tang)玻璃(li)在規定厚度內用20KV高(gao)頻電火花檢查瓷層時，高(gao)頻電火花不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪(tang)瓷(ci)反應罐的玻璃層內應力越(yue)小，彈(dan)性越(yue)好(hao)，硬度(du)越(yue)大(da)，抗(kang)彎抗(kang)壓(ya)強度(du)越(yue)高(gao)，則耐沖(chong)擊(ji)就(jiu)越(yue)好(hao)。我廠之(zhi)玻璃層在規定厚度(du)內，用直徑30mm，重量112g鋼球沖(chong)擊(ji)時，其(qi)沖(chong)擊(ji)功(gong)為282×10-3J（優等品(pin)指標(biao)為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪(tang)瓷(ci)反應釜適用(yong)于石油化工(gong)、橡膠、農藥、染料、醫藥等行業，用(yong)以完成磺化、硝(xiao)化、氫化、烴(jing)化、聚合、縮合等工(gong)藝過程。

搪瓷反應(ying)釜工作溫(wen)度較高，通(tong)(tong)常化學反應(ying)需要在一定的(de)溫(wen)度條件下才能(neng)進行，所以(yi)反應(ying)釜既承(cheng)(cheng)受(shou)(shou)壓力又承(cheng)(cheng)受(shou)(shou)溫(wen)度。獲(huo)得高溫(wen)的(de)方法通(tong)(tong)常有以(yi)下幾種：

1、水加溫

要求(qiu)溫度不高(gao)(gao)時(shi)可采用，其加熱系(xi)統有敞開式和密(mi)閉式兩種。敞開式較簡單(dan)，它由循環(huan)泵、水(shui)槽、管道及控制閥門的調節器所(suo)組成，當采用高(gao)(gao)壓水(shui)時(shi)，設備機械強度要求(qiu)高(gao)(gao)，反應釜(fu)外表面焊上(shang)蛇管，蛇管與釜(fu)壁有間(jian)隙，使熱阻增(zeng)加，傳熱效果降低。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱溫(wen)度在100℃以下(xia)時，可用一個大(da)氣壓以下(xia)的蒸(zheng)汽(qi)(qi)來加(jia)熱；100~180℃范圍(wei)內，用飽和蒸(zheng)汽(qi)(qi)；當溫(wen)度更高(gao)時，可采用高(gao)壓過熱蒸(zheng)汽(qi)(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須(xu)在高溫下(xia)操作或欲避免采(cai)用(yong)高壓的加(jia)熱系統時，可用(yong)其它介質來代(dai)替水和蒸汽，如礦物油(you)（275～300℃）、聯苯(ben)醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲纏繞在(zai)反應(ying)釜(fu)(fu)筒體(ti)(ti)的絕緣(yuan)(yuan)層上，或安裝(zhuang)在(zai)離反應(ying)釜(fu)(fu)若(ruo)干距離的特設(she)絕緣(yuan)(yuan)體(ti)(ti)上，因此，在(zai)電(dian)阻絲與反應(ying)釜(fu)(fu)體(ti)(ti)之間形成了不大(da)的空間間隙。

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