搪玻璃反應罐是將含高(gao)(gao)二氧(yang)化硅的玻璃(li)，襯在鋼(gang)制容器的內(nei)表面(mian)，經(jing)高(gao)(gao)溫灼燒而牢固地密(mi)著于金屬表面(mian)上成為復合材料制品。所(suo)以(yi)，是一種優良(liang)的耐腐蝕設備。

搪玻璃反(fan)應(ying)罐(guan)技(ji)術(shu)規范：

1、耐酸性：

對(dui)各種有(you)機(ji)酸、無(wu)機(ji)酸、有(you)機(ji)溶劑均有(you)較好的抗(kang)蝕性。如(ru)將(jiang)我廠生產的搪玻璃試樣(yang)置于20%HCI溶液(ye)中煮沸48h，腐蝕速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪(tang)玻璃對堿性溶液(ye)抗蝕性較酸溶液(ye)差。但將我廠搪(tang)玻璃試樣置于1N氫氧化鈉溶液(ye)腐蝕，試驗溫(wen)度80℃時(shi)間48h。腐蝕速(su)率為(wei)6.76g/m2.d（優(you)等品指標(biao)為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

搪玻璃反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為0－200℃，耐溫(wen)急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

淄博搪玻璃反應罐的(de)瓷層厚度0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃反應釜附件的(de)瓷層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)(li)具(ju)有(you)良(liang)好的絕緣性(xing)，當搪玻璃(li)(li)在(zai)規定厚(hou)度內用(yong)20KV高(gao)頻電火花(hua)檢查瓷層時，高(gao)頻電火花(hua)不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪(tang)玻璃反(fan)應罐(guan)的玻璃層內應力越小(xiao)，彈性越好，硬(ying)度越大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度越高，則耐沖擊(ji)就越好。我廠之玻璃層在規定厚度內，用直徑30mm，重量112g鋼球(qiu)沖擊(ji)時，其沖擊(ji)功為(wei)282×10-3J（優等品指標為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反應釜適用(yong)于石油化(hua)工(gong)、橡(xiang)膠、農藥、染料、醫藥等行業，用(yong)以完成磺(huang)化(hua)、硝(xiao)化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等工(gong)藝過程。

搪(tang)瓷反(fan)應(ying)釜(fu)工作溫度較高，通常化學反(fan)應(ying)需要(yao)在(zai)一定的(de)溫度條件下才能進(jin)行，所(suo)以反(fan)應(ying)釜(fu)既承受壓力又承受溫度。獲得(de)高溫的(de)方(fang)法通常有以下幾種(zhong)：

1、水加溫

要求(qiu)溫度不高(gao)時(shi)可采用，其(qi)加(jia)熱(re)系統有敞開式(shi)和密(mi)閉式(shi)兩種。敞開式(shi)較簡單，它由循環泵、水(shui)槽、管(guan)(guan)道及控制(zhi)閥門的調節器所組成，當采用高(gao)壓水(shui)時(shi)，設備機械強度要求(qiu)高(gao)，反應釜(fu)(fu)外表(biao)面(mian)焊上蛇管(guan)(guan)，蛇管(guan)(guan)與釜(fu)(fu)壁有間(jian)隙，使熱(re)阻增加(jia)，傳熱(re)效(xiao)果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫度在100℃以下時，可(ke)用(yong)(yong)一個(ge)大氣壓以下的蒸(zheng)汽(qi)來加熱(re)；100~180℃范圍(wei)內，用(yong)(yong)飽和蒸(zheng)汽(qi)；當(dang)溫度更高時，可(ke)采(cai)用(yong)(yong)高壓過熱(re)蒸(zheng)汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若(ruo)工藝(yi)要(yao)求(qiu)必須在高溫下操作或欲(yu)避(bi)免采用(yong)高壓的加(jia)熱系統(tong)時，可用(yong)其(qi)它介質來代替水(shui)和蒸汽，如(ru)礦物油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點(dian)258℃）、熔鹽（140～540℃）、液(ye)態鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電阻絲纏繞在(zai)反應釜筒體的絕(jue)緣層上，或安裝在(zai)離反應釜若(ruo)干距(ju)離的特設絕(jue)緣體上，因此(ci)，在(zai)電阻絲與(yu)反應釜體之(zhi)間形成了不大的空間間隙(xi)。

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