搪瓷反應罐是將含(han)高二氧(yang)化硅的玻璃，襯在鋼制(zhi)(zhi)容器的內表(biao)面(mian)，經高溫(wen)灼燒(shao)而牢固地密著于金屬表(biao)面(mian)上(shang)成(cheng)為(wei)復合材料制(zhi)(zhi)品。所以，是一種優(you)良的耐腐蝕(shi)設備(bei)。

搪瓷(ci)反應罐技術規范(fan)：

1、耐酸性：

對各(ge)種有(you)(you)機(ji)(ji)酸(suan)、無機(ji)(ji)酸(suan)、有(you)(you)機(ji)(ji)溶劑(ji)均有(you)(you)較好的抗蝕性。如將我廠生產的搪玻(bo)璃試樣置于(yu)20%HCI溶液中煮沸48h，腐蝕速(su)率(lv)為0.9lg/m2.d（優等(deng)品指標(biao)為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對堿性溶液(ye)抗蝕性較酸溶液(ye)差(cha)。但(dan)將我廠搪玻璃(li)試(shi)樣置于1N氫氧(yang)化鈉溶液(ye)腐蝕，試(shi)驗(yan)溫度80℃時間48h。腐蝕速(su)率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度(du)為(wei)0－200℃，耐溫(wen)急(ji)變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷反(fan)(fan)應罐的瓷層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反(fan)(fan)應釜附件(jian)的瓷層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻(bo)璃具有良好的絕(jue)緣性，當搪(tang)玻(bo)璃在(zai)規定厚度(du)內用20KV高(gao)頻電(dian)火花(hua)檢查瓷層(ceng)時，高(gao)頻電(dian)火花(hua)不能(neng)擊穿瓷層(ceng)。

6、耐沖擊性：

搪瓷反(fan)應(ying)罐的玻(bo)璃層(ceng)內應(ying)力越小，彈性越好，硬度越大，抗(kang)彎抗(kang)壓強度越高，則耐(nai)沖擊(ji)就越好。我(wo)廠之玻(bo)璃層(ceng)在規定厚度內，用直徑(jing)30mm，重(zhong)量112g鋼球沖擊(ji)時，其沖擊(ji)功為(wei)282×10-3J（優等品指標為(wei)260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反(fan)應釜適用(yong)于(yu)石油化(hua)工、橡膠、農藥(yao)、染料、醫(yi)藥(yao)等行(xing)業，用(yong)以完成(cheng)磺化(hua)、硝化(hua)、氫(qing)化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮(suo)合等工藝(yi)過程。

搪瓷反(fan)應釜工作溫(wen)度較高，通常化學反(fan)應需(xu)要在一定(ding)的溫(wen)度條(tiao)件(jian)下(xia)才能進行，所以反(fan)應釜既承受(shou)壓力又(you)承受(shou)溫(wen)度。獲得高溫(wen)的方法通常有(you)以下(xia)幾種：

1、水加溫

要求溫度(du)不高時(shi)可采(cai)用，其(qi)加熱(re)系統有(you)敞開(kai)式和密閉式兩種。敞開(kai)式較(jiao)簡(jian)單，它由循環泵、水(shui)槽、管(guan)道及控(kong)制閥門的調節器(qi)所組(zu)成，當采(cai)用高壓水(shui)時(shi)，設備(bei)機械強度(du)要求高，反應釜外表面焊上蛇管(guan)，蛇管(guan)與(yu)釜壁有(you)間隙(xi)，使熱(re)阻(zu)增加，傳熱(re)效(xiao)果降低。

2、蒸汽加熱

加熱(re)溫度在100℃以下時，可(ke)用一個大氣壓以下的蒸(zheng)汽來加熱(re)；100~180℃范圍(wei)內(nei)，用飽和蒸(zheng)汽；當溫度更(geng)高(gao)時，可(ke)采(cai)用高(gao)壓過熱(re)蒸(zheng)汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必須在高(gao)溫下操(cao)作或欲(yu)避免采用高(gao)壓(ya)的加熱系(xi)統時，可用其(qi)它介(jie)質來代替水和蒸(zheng)汽，如(ru)礦(kuang)物油（275～300℃）、聯(lian)苯醚(mi)混(hun)合劑（沸點258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液態(tai)鉛（熔(rong)點327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻(zu)絲纏(chan)繞(rao)在(zai)反應釜(fu)筒(tong)體的(de)絕緣(yuan)層上，或安裝(zhuang)在(zai)離反應釜(fu)若干距離的(de)特(te)設絕緣(yuan)體上，因此，在(zai)電(dian)阻(zu)絲與(yu)反應釜(fu)體之間形成了不大的(de)空間間隙。

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