山東(dong)搪(tang)聯化(hua)工設備有限公(gong)司
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工廠地址:淄博市(shi)淄川區董瓦村
搪瓷反應釜是將含高(gao)二氧化硅的(de)玻(bo)璃(li),襯在鋼(gang)制容(rong)器的(de)內表面,經高(gao)溫灼燒(shao)而牢固(gu)地密著于金屬表面上(shang)成為復(fu)合材料制品。所以,是一種優(you)良的(de)耐腐蝕設備。
搪瓷反應釜技術規(gui)范:
1、耐酸性:
對各種有(you)機(ji)酸(suan)、無機(ji)酸(suan)、有(you)機(ji)溶劑均有(you)較好的(de)抗蝕性。如(ru)將(jiang)我廠生產的(de)搪玻璃試樣(yang)置于20%HCI溶液中煮(zhu)沸48h,腐蝕速率為0.9lg/m2.d(優等(deng)品指標(biao)為1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪玻(bo)(bo)璃(li)對堿性溶(rong)液(ye)(ye)抗蝕(shi)性較(jiao)酸溶(rong)液(ye)(ye)差(cha)。但將(jiang)我(wo)廠搪玻(bo)(bo)璃(li)試樣置于(yu)1N氫氧(yang)化鈉溶(rong)液(ye)(ye)腐(fu)蝕(shi),試驗溫度80℃時間(jian)48h。腐(fu)蝕(shi)速率為6.76g/m2.d(優等品指標為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時,應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0-200℃,耐(nai)溫急變性≥200℃。
4、瓷層厚度:
搪瓷反(fan)應釜(fu)的瓷層厚(hou)度0.8-2.0mm,搪玻璃反(fan)應釜(fu)附件的瓷層厚(hou)度0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪(tang)玻(bo)(bo)璃具有良(liang)好的絕緣性(xing),當搪(tang)玻(bo)(bo)璃在規定(ding)厚度內(nei)用20KV高頻電火(huo)花檢查瓷層時(shi),高頻電火(huo)花不能(neng)擊穿(chuan)瓷層。
6、耐沖擊性:
搪玻璃(li)反應釜的玻璃(li)層內應力越(yue)小,彈性越(yue)好,硬度越(yue)大,抗彎(wan)抗壓強度越(yue)高,則耐沖(chong)擊(ji)就越(yue)好。我廠之(zhi)玻璃(li)層在規定厚度內,用直徑30mm,重量112g鋼球沖(chong)擊(ji)時,其沖(chong)擊(ji)功為282×10-3J(優等品指標為260×10-3J)。
搪瓷反(fan)應釜應用領域:
搪瓷反(fan)應釜適用于石油化工、橡(xiang)膠、農藥、染料、醫藥等行業,用以完成磺化、硝(xiao)化、氫(qing)化、烴化、聚合(he)、縮合(he)等工藝(yi)過程。
搪瓷(ci)反(fan)應(ying)釜工作溫(wen)度(du)較高,通常(chang)化學反(fan)應(ying)需要在一定的溫(wen)度(du)條件下(xia)才能進行,所(suo)以(yi)反(fan)應(ying)釜既承(cheng)受壓力又承(cheng)受溫(wen)度(du)。獲得高溫(wen)的方法通常(chang)有以(yi)下(xia)幾種:
1、水加溫
要(yao)求溫度(du)不(bu)高時可采用,其加(jia)熱(re)系統有(you)敞(chang)開式和密閉式兩種。敞(chang)開式較簡單,它由循環泵、水槽(cao)、管(guan)道及控制閥(fa)門的(de)調節器所組成,當(dang)采用高壓水時,設備(bei)機械強(qiang)度(du)要(yao)求高,反應(ying)釜外表(biao)面焊上蛇管(guan),蛇管(guan)與釜壁有(you)間隙,使熱(re)阻增加(jia),傳熱(re)效果降低(di)。
2、蒸汽加熱
加熱溫度在100℃以(yi)下(xia)時(shi)(shi),可用(yong)(yong)一個(ge)大氣壓(ya)以(yi)下(xia)的蒸(zheng)汽來加熱;100~180℃范圍(wei)內,用(yong)(yong)飽和(he)蒸(zheng)汽;當溫度更高時(shi)(shi),可采用(yong)(yong)高壓(ya)過熱蒸(zheng)汽。
3、用其它介質加熱
若工藝(yi)要求(qiu)必(bi)須在高溫(wen)下操作或(huo)欲避(bi)免采用高壓的(de)加熱系統時,可用其它介質來(lai)代替水和蒸汽,如礦物油(you)(275~300℃)、聯苯醚混合(he)劑(沸點258℃)、熔鹽(140~540℃)、液態(tai)鉛(熔點327℃)等。
4、電加熱
將電(dian)(dian)阻(zu)絲纏繞在(zai)反應(ying)釜(fu)筒體的絕緣層上,或安裝在(zai)離(li)反應(ying)釜(fu)若(ruo)干距(ju)離(li)的特設(she)絕緣體上,因此(ci),在(zai)電(dian)(dian)阻(zu)絲與反應(ying)釜(fu)體之間形成了不大的空間間隙。
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