山東搪聯化工設備(bei)有限公(gong)司
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工廠地(di)址:淄(zi)博(bo)市淄(zi)川區董瓦村
搪瓷反應釜是(shi)將(jiang)含高(gao)二氧(yang)化硅(gui)的玻(bo)璃,襯在鋼(gang)制容器的內表(biao)面,經高(gao)溫灼燒(shao)而牢固地密著于金屬表(biao)面上(shang)成(cheng)為(wei)復合材料制品。所(suo)以,是(shi)一種優良(liang)的耐(nai)腐(fu)蝕設備。
搪(tang)瓷反應(ying)釜技(ji)術規范:
1、耐酸性:
對各種有(you)機酸(suan)、無機酸(suan)、有(you)機溶劑均有(you)較好的抗蝕(shi)(shi)性(xing)。如將我廠生產(chan)的搪玻(bo)璃試樣置(zhi)于(yu)20%HCI溶液中煮沸48h,腐(fu)蝕(shi)(shi)速率(lv)為0.9lg/m2.d(優(you)等品指標為1.0g/m2.d)。
2、耐堿性:
搪玻璃(li)對堿性(xing)溶液(ye)抗(kang)蝕性(xing)較酸溶液(ye)差。但將我廠搪玻璃(li)試樣置于1N氫氧化(hua)鈉溶液(ye)腐(fu)蝕,試驗溫度(du)80℃時間48h。腐(fu)蝕速率為6.76g/m2.d(優等品指標為7.0g/m2.d)。
3、操作溫度:
淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時,應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為0-200℃,耐溫(wen)急(ji)變(bian)性≥200℃。
4、瓷層厚度:
搪瓷(ci)反(fan)應(ying)釜(fu)(fu)的(de)瓷(ci)層厚度(du)0.8-2.0mm,搪玻璃(li)反(fan)應(ying)釜(fu)(fu)附件(jian)的(de)瓷(ci)層厚度(du)0.6-1.8mm。
5、耐壓電:
搪(tang)玻璃(li)具有良好的絕緣性,當搪(tang)玻璃(li)在規(gui)定(ding)厚(hou)度內用(yong)20KV高頻電火(huo)(huo)花檢查瓷層時,高頻電火(huo)(huo)花不(bu)能擊(ji)穿瓷層。
6、耐沖擊性:
搪玻(bo)(bo)璃反應釜的玻(bo)(bo)璃層內應力越(yue)小,彈(dan)性越(yue)好,硬(ying)度(du)越(yue)大(da),抗彎抗壓強度(du)越(yue)高,則耐沖擊就越(yue)好。我廠(chang)之玻(bo)(bo)璃層在規定厚度(du)內,用直徑30mm,重量112g鋼球沖擊時,其沖擊功為282×10-3J(優等品(pin)指標為260×10-3J)。
搪瓷反應釜應用領域:
搪瓷反應釜(fu)適用于石油化(hua)(hua)工、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業,用以完成磺化(hua)(hua)、硝化(hua)(hua)、氫化(hua)(hua)、烴(jing)化(hua)(hua)、聚合、縮合等工藝過程。
搪瓷(ci)反應釜工作(zuo)溫(wen)度(du)(du)較高(gao),通常(chang)化學(xue)反應需要在一定的(de)溫(wen)度(du)(du)條件下才(cai)能進(jin)行,所以反應釜既(ji)承受(shou)壓力又承受(shou)溫(wen)度(du)(du)。獲得高(gao)溫(wen)的(de)方法通常(chang)有以下幾種:
1、水加溫
要求溫(wen)度(du)不(bu)高時可采用,其加(jia)熱(re)系統(tong)有(you)敞開式(shi)和(he)密閉式(shi)兩(liang)種。敞開式(shi)較(jiao)簡單,它由循環泵、水(shui)(shui)槽、管道及控制閥門的調節器所組(zu)成,當采用高壓(ya)水(shui)(shui)時,設(she)備機械強度(du)要求高,反(fan)應(ying)釜外表面(mian)焊上蛇管,蛇管與釜壁有(you)間隙,使熱(re)阻增加(jia),傳熱(re)效果降低。
2、蒸汽加熱
加熱溫度在100℃以下(xia)(xia)時,可用一個(ge)大氣壓(ya)以下(xia)(xia)的蒸汽(qi)來(lai)加熱;100~180℃范圍內,用飽(bao)和蒸汽(qi);當(dang)溫度更高時,可采(cai)用高壓(ya)過熱蒸汽(qi)。
3、用其它介質加熱
若工藝要求必須在高(gao)溫下操作或欲避免(mian)采用高(gao)壓的加熱(re)系統時(shi),可用其(qi)它介質來代替水(shui)和蒸(zheng)汽,如礦物油(275~300℃)、聯苯醚(mi)混合劑(沸(fei)點258℃)、熔鹽(140~540℃)、液態鉛(熔點327℃)等。
4、電加熱
將(jiang)電阻絲纏(chan)繞在(zai)反應釜筒(tong)體(ti)(ti)的(de)絕緣層上,或安裝在(zai)離反應釜若干距離的(de)特設絕緣體(ti)(ti)上,因此,在(zai)電阻絲與反應釜體(ti)(ti)之間(jian)形成了不(bu)大的(de)空(kong)間(jian)間(jian)隙(xi)。
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