搪瓷反應釜是將含高(gao)(gao)二(er)氧化(hua)硅的(de)玻璃，襯在鋼制容器的(de)內表面，經高(gao)(gao)溫灼(zhuo)燒而牢固地(di)密著于金屬表面上成為(wei)復合材料制品。所以(yi)，是一種優良的(de)耐腐蝕(shi)設備。

搪(tang)瓷反應釜技術(shu)規范(fan)：

1、耐酸性：

對(dui)各種有(you)機酸、無(wu)機酸、有(you)機溶劑均有(you)較(jiao)好(hao)的抗蝕(shi)性。如將我廠生產的搪玻璃試樣(yang)置于20%HCI溶液中(zhong)煮沸48h，腐蝕(shi)速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻(bo)璃(li)對堿性溶液抗蝕性較酸溶液差。但將我廠搪玻(bo)璃(li)試樣置于1N氫氧化(hua)鈉溶液腐蝕，試驗溫(wen)度(du)80℃時間48h。腐蝕速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫(wen)度為0－200℃，耐溫(wen)急(ji)變性(xing)≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪(tang)瓷(ci)(ci)反應(ying)釜(fu)的瓷(ci)(ci)層厚度(du)(du)0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃(li)反應(ying)釜(fu)附(fu)件的瓷(ci)(ci)層厚度(du)(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻璃(li)具(ju)有良好的絕緣性，當搪玻璃(li)在(zai)規(gui)定厚度(du)內用(yong)20KV高(gao)頻電火(huo)花檢(jian)查瓷層時(shi)，高(gao)頻電火(huo)花不能擊穿瓷層。

6、耐沖擊性：

搪玻璃反應(ying)釜的玻璃層內應(ying)力(li)越(yue)小，彈(dan)性(xing)越(yue)好，硬度越(yue)大，抗彎抗壓強度越(yue)高，則耐沖(chong)擊就越(yue)好。我(wo)廠之玻璃層在規定厚度內，用直徑30mm，重量(liang)112g鋼球(qiu)沖(chong)擊時，其沖(chong)擊功為282×10-3J（優等品(pin)指標(biao)為260×10-3J）。

搪瓷反(fan)應釜應用領域：

搪瓷(ci)反(fan)應釜適用于石油(you)化工、橡膠、農藥(yao)、染(ran)料、醫藥(yao)等(deng)行業，用以完成磺化、硝化、氫化、烴化、聚(ju)合、縮合等(deng)工藝過程。

搪瓷反(fan)應釜工作溫(wen)度(du)較(jiao)高，通常(chang)(chang)化學反(fan)應需(xu)要在一定的溫(wen)度(du)條件下(xia)才能進行，所以(yi)反(fan)應釜既承受壓(ya)力(li)又承受溫(wen)度(du)。獲(huo)得高溫(wen)的方法通常(chang)(chang)有以(yi)下(xia)幾種：

1、水加溫

要求溫度(du)不高(gao)時可采(cai)用，其加熱(re)系統有敞開式和密閉式兩(liang)種(zhong)。敞開式較簡單(dan)，它由(you)循環泵、水槽、管道及控制閥門(men)的調節(jie)器所(suo)組成，當采(cai)用高(gao)壓(ya)水時，設備機械強度(du)要求高(gao)，反應(ying)釜外表面焊上(shang)蛇管，蛇管與釜壁(bi)有間隙，使熱(re)阻增加，傳熱(re)效果(guo)降低(di)。

2、蒸汽加熱

加(jia)熱(re)溫(wen)度在100℃以下時(shi)(shi)，可(ke)用(yong)一個大氣壓(ya)以下的蒸汽來(lai)加(jia)熱(re)；100~180℃范圍內(nei)，用(yong)飽和蒸汽；當溫(wen)度更(geng)高時(shi)(shi)，可(ke)采用(yong)高壓(ya)過熱(re)蒸汽。

3、用其它介質加熱

若工藝要求必(bi)須在高溫下操作或(huo)欲避免采用高壓的加熱(re)系統時，可用其(qi)它介(jie)質來代替水(shui)和蒸汽，如礦物油（275～300℃）、聯苯(ben)醚混合劑(ji)（沸點(dian)258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點(dian)327℃）等。

4、電加熱

將電阻(zu)絲纏繞在反(fan)應(ying)釜(fu)筒體(ti)的絕緣(yuan)層(ceng)上(shang)(shang)，或安裝(zhuang)在離反(fan)應(ying)釜(fu)若干距(ju)離的特設絕緣(yuan)體(ti)上(shang)(shang)，因此，在電阻(zu)絲與反(fan)應(ying)釜(fu)體(ti)之間形成(cheng)了不大的空間間隙(xi)。

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