搪瓷反應罐是(shi)將含高二氧化(hua)硅的玻璃，襯在鋼(gang)制(zhi)容器的內表(biao)面，經高溫灼燒而牢固地密著于金屬表(biao)面上成(cheng)為復合材料(liao)制(zhi)品(pin)。所(suo)以，是(shi)一種優良的耐(nai)腐蝕(shi)設備(bei)。

搪瓷反應罐技(ji)術規范：

1、耐酸性：

對(dui)各種有機(ji)酸(suan)、無機(ji)酸(suan)、有機(ji)溶(rong)劑均有較(jiao)好(hao)的抗蝕(shi)性。如將我(wo)廠(chang)生產(chan)的搪玻(bo)璃試樣置于20%HCI溶(rong)液(ye)中煮沸48h，腐蝕(shi)速率為0.9lg/m2.d（優等(deng)品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對堿性(xing)溶液抗蝕(shi)(shi)性(xing)較酸溶液差。但將我廠搪玻璃(li)試(shi)樣置于(yu)1N氫(qing)氧化鈉溶液腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)，試(shi)驗(yan)溫度80℃時間(jian)48h。腐(fu)(fu)蝕(shi)(shi)速率為6.76g/m2.d（優等品指標為7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應罐加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為(wei)0－200℃，耐(nai)溫急(ji)變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪(tang)瓷(ci)反(fan)應罐的(de)瓷(ci)層厚度(du)0.8-2.0mm，搪(tang)玻璃(li)反(fan)應釜(fu)附(fu)件(jian)的(de)瓷(ci)層厚度(du)0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪玻(bo)璃具有良好(hao)的絕緣性(xing)，當搪玻(bo)璃在規定厚度內用20KV高(gao)頻(pin)電火花檢查瓷(ci)層時(shi)，高(gao)頻(pin)電火花不能(neng)擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪瓷反應(ying)罐(guan)的玻(bo)璃層(ceng)內(nei)應(ying)力越小，彈性(xing)越好(hao)，硬(ying)度(du)越大，抗彎抗壓強度(du)越高，則耐沖擊就越好(hao)。我廠(chang)之(zhi)玻(bo)璃層(ceng)在規定(ding)厚度(du)內(nei)，用直徑30mm，重量112g鋼球沖擊時，其沖擊功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反(fan)應(ying)釜適用(yong)于(yu)石油化(hua)工(gong)、橡膠、農藥(yao)、染料、醫藥(yao)等行業，用(yong)以完成(cheng)磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴(jing)化(hua)、聚合(he)、縮合(he)等工(gong)藝過程。

搪瓷反應釜工作溫(wen)度(du)較高，通常化學反應需要在一定的溫(wen)度(du)條件下才能進行，所以反應釜既(ji)承受壓力又承受溫(wen)度(du)。獲得高溫(wen)的方法通常有以下幾種：

1、水加溫

要(yao)求溫(wen)度(du)不高時(shi)可采(cai)用，其(qi)加熱(re)系統有敞開(kai)式和密閉(bi)式兩種。敞開(kai)式較簡單，它由(you)循環泵、水槽(cao)、管道(dao)及(ji)控制閥門的(de)調節(jie)器所組成，當采(cai)用高壓水時(shi)，設備(bei)機(ji)械強度(du)要(yao)求高，反應釜外表面(mian)焊上蛇管，蛇管與(yu)釜壁有間隙，使(shi)熱(re)阻增加，傳熱(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度(du)在100℃以下時，可用一(yi)個大(da)氣(qi)壓(ya)以下的(de)蒸(zheng)汽(qi)(qi)來加熱；100~180℃范圍內，用飽和蒸(zheng)汽(qi)(qi)；當溫度(du)更高(gao)時，可采用高(gao)壓(ya)過熱蒸(zheng)汽(qi)(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要(yao)求必須在高(gao)溫下操作(zuo)或欲避免采用高(gao)壓的加(jia)熱系統時(shi)，可(ke)用其它介質來代(dai)替(ti)水和蒸汽，如礦物(wu)油(you)（275～300℃）、聯苯醚(mi)混合劑(ji)（沸點258℃）、熔鹽（140～540℃）、液態鉛（熔點327℃）等。

4、電加熱

將電(dian)阻絲(si)纏繞在(zai)反應(ying)釜(fu)筒體的絕緣層上(shang)，或(huo)安裝在(zai)離反應(ying)釜(fu)若干距離的特設絕緣體上(shang)，因(yin)此，在(zai)電(dian)阻絲(si)與反應(ying)釜(fu)體之間形成了(le)不大的空間間隙。

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