搪瓷反應釜是(shi)將含高二氧(yang)化硅的玻璃，襯(chen)在鋼制(zhi)容器的內表(biao)面，經(jing)高溫灼(zhuo)燒而(er)牢固(gu)地密著于金屬表(biao)面上成為復(fu)合材料制(zhi)品。所以，是(shi)一種優良的耐腐蝕設備。

搪(tang)瓷反應釜技(ji)術規范(fan)：

1、耐酸性：

對各種有(you)機酸、無機酸、有(you)機溶(rong)劑(ji)均(jun)有(you)較好的抗蝕(shi)性(xing)。如將(jiang)我廠生產的搪玻璃試樣置于(yu)20%HCI溶(rong)液中煮(zhu)沸(fei)48h，腐蝕(shi)速率為0.9lg/m2.d（優等品指標為1.0g/m2.d）。

2、耐堿性：

搪玻璃(li)對堿(jian)性(xing)溶液抗蝕(shi)性(xing)較酸溶液差(cha)。但(dan)將我廠搪玻璃(li)試樣置于1N氫(qing)氧(yang)化鈉(na)溶液腐蝕(shi)，試驗(yan)溫度(du)80℃時間48h。腐蝕(shi)速(su)率為(wei)6.76g/m2.d（優等品指標為(wei)7.0g/m2.d）。

3、操作溫度：

淄博搪瓷反應釜加熱和冷卻時，應緩慢進行。我廠制造的搪玻璃反應釜使用溫度為0－200℃，耐溫急變性≥200℃。

4、瓷層厚度：

搪瓷(ci)反(fan)應釜的瓷(ci)層厚度0.8-2.0mm，搪玻璃反(fan)應釜附(fu)件(jian)的瓷(ci)層厚度0.6-1.8mm。

5、耐壓電：

搪(tang)玻璃具有良好的絕緣性，當搪(tang)玻璃在(zai)規(gui)定厚度(du)內用20KV高(gao)頻電(dian)火(huo)花檢查(cha)瓷(ci)層時，高(gao)頻電(dian)火(huo)花不能擊穿瓷(ci)層。

6、耐沖擊性：

搪玻(bo)璃反應(ying)釜的玻(bo)璃層(ceng)內(nei)應(ying)力越小，彈性(xing)越好(hao)，硬度越大，抗(kang)彎(wan)抗(kang)壓強度越高，則耐沖(chong)擊就(jiu)越好(hao)。我廠之玻(bo)璃層(ceng)在規定厚(hou)度內(nei)，用直徑30mm，重量(liang)112g鋼球沖(chong)擊時，其沖(chong)擊功為282×10-3J（優等品指標為260×10-3J）。

搪瓷反應釜應用領域：

搪瓷反(fan)應釜(fu)適用(yong)于石油(you)化(hua)工(gong)(gong)、橡膠、農藥(yao)、染(ran)料、醫藥(yao)等行業，用(yong)以完成磺化(hua)、硝化(hua)、氫化(hua)、烴化(hua)、聚合、縮合等工(gong)(gong)藝過程。

搪(tang)瓷反(fan)應釜(fu)工作溫度(du)較高，通常化學(xue)反(fan)應需要在一(yi)定(ding)的(de)溫度(du)條(tiao)件(jian)下(xia)才能進行(xing)，所以(yi)反(fan)應釜(fu)既(ji)承受壓(ya)力(li)又(you)承受溫度(du)。獲得高溫的(de)方法通常有以(yi)下(xia)幾種(zhong)：

1、水加溫

要求溫(wen)度不高時可采用，其加熱(re)(re)系統有敞(chang)開(kai)式和密閉式兩種。敞(chang)開(kai)式較簡(jian)單(dan)，它由循環泵、水槽、管道及控(kong)制閥門的調節(jie)器所組成，當采用高壓水時，設(she)備機(ji)械強度要求高，反應釜(fu)外(wai)表(biao)面(mian)焊上蛇管，蛇管與釜(fu)壁有間隙(xi)，使熱(re)(re)阻增加，傳熱(re)(re)效果降低。

2、蒸汽加熱

加熱溫度(du)在100℃以(yi)下時(shi)(shi)，可用一個(ge)大氣(qi)壓以(yi)下的(de)蒸汽(qi)來(lai)加熱；100~180℃范圍內，用飽(bao)和蒸汽(qi)；當溫度(du)更高時(shi)(shi)，可采用高壓過熱蒸汽(qi)。

3、用其它介質加熱

若工藝要求(qiu)必須在高溫下操作或欲避免采用高壓的加熱系統時，可用其它介質來代替水和(he)蒸汽(qi)，如礦物油（275～300℃）、聯苯醚混合劑（沸點258℃）、熔(rong)鹽（140～540℃）、液態鉛（熔(rong)點327℃）等。

4、電加熱

將(jiang)電(dian)阻絲纏繞(rao)在反(fan)應(ying)(ying)釜筒體(ti)(ti)的(de)絕緣(yuan)層上(shang)，或安裝在離反(fan)應(ying)(ying)釜若干距離的(de)特設絕緣(yuan)體(ti)(ti)上(shang)，因此(ci)，在電(dian)阻絲與反(fan)應(ying)(ying)釜體(ti)(ti)之間形成了不大的(de)空間間隙(xi)。

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